1、色彩表現:高穿透度、高飽和度、高對比度
2、制程特性:高涂布均勻性、高感光度、較大顯影制程窗口
3、可靠度:高耐熱性、高耐光性、高耐化學性、高儲存穩定性
依據客戶需求調整規格

具有曝光靈敏度高、對比度高、分辨率高、且具有良好的工藝寬裕度。可應用于AMOLED、LCD及相關半導體制造工藝
滿足于i-線,g-線、g-h-i線曝光,可實現1.5μm分辨率
涂布:spin或slit
前烘:110℃,160sec
曝光: i-線,g-線、g-h-i線曝光
顯影:TMAH 2.38% ,60s
堅膜:130 ℃ ,140sec





